热纳米压印光刻是一种典型的纳米压印光刻工艺

热纳米压印光刻是一种典型的纳米压印光刻工艺

   纳米封装——纳米技术与电子封装过程的非线性动力学特性。因为波纹层在各类纳米技术领域的应用潜力，模拟和理解波痕层的形成过程正日益受到人们的关注。
    纳米压印光刻工艺模拟    纳米压印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）是最有吸引力和最有前途的纳米制造工艺之一。该工艺能够利用各种材料提供低成本、高产额、小至6nm尺寸的图案。
    热纳米压印光刻是一种典型的纳米压印光刻工艺。热压印工艺是利用热塑性聚合物实现的。热压印工艺的几个步骤，先对一块聚合物和一个纳米制造的标准模具（根据特定的规格要求制造的、刻
有特定图案的精密模具）在高于该聚合物玻璃转化温度( Tg)的温度下进行预热；然后将模具压人聚合物中，这样就在聚合物上形成了模具的阴文；当模具受压并保持此状态时，将聚合物冷却至以下、并使之硬化，从而在聚合物上形成了模具图案的轮廓；最后撤掉模具上的压印力并剥离模具。
    与纳米压印光刻相关的典型问题有聚合物膜压印后的机械应力、大变形和残余厚度。聚合物薄膜压印后的横截面轮廓是压印压力、聚合物原始厚度、纳米空洞尺寸或长宽比等工艺参数的函数，对其进行数值模拟能够提供压印工艺的有价值信息。目前，主要有两种方法来模拟工艺。