树脂材料样品的纳米印光刻电子束光刻技术的应用

树脂材料样品的纳米印光刻电子束光刻技术的应用
　　压模是近年来可以延伸到毫米尺寸的老方法之一。热压模可以用来生产毫米甚至纳米特征和结构。大约10pm宽和深的结构模型能够被压模成PMMA。目前，一种更改过的晶片结合系统被用于压模结构，相当于400nm穿过一个1℃m直径的晶片。
　　有一种压模，叫做纳米印光刻(NIL)，包括把一个模子压在涂有光刻胶的衬底表面。这里，模型通过机械反应而不是化学反应被转换成保护层，即普通的PMMA。接着是光刻胶打开一个小小的区域到衬底，并允许在衬底表面淀积或者蚀刻——光刻胶的传统用法。NIL的模型可以由许多普通的平版处理过程准备好。例如，电子束光刻已经被用来在40 nm的树脂上制作10 nm直径的柱子，然后在PMMA中压印。
　　一种称为分步快速镂刻技术，是使用光化学工艺，把晶片表面的一层液体固化。这种技术避免了高温和较高的压力。晶片首先被涂上固体有机材料的转换层，然后将玻璃模板和期望的图案置于有涂层的晶片附近。模板可以利用好多方法来加工。一种低粘性的液体(光聚合，有机硅，蚀刻保护材料)被分散在晶片的模板和转换层之间，然后这些层被粘在一起。通过紫外线曝光之后固化蚀刻保护层，并使它与转换层联系在一起，然后去除模板。等离子蚀刻把图形从现在的固体蚀刻保护层更换到了转换层，然后去掉蚀刻保护层。这就可以进一步处理晶片表面的转换层模型。快速镂刻技术已经生产出了60nm部件。